"Hiệu ứng L" trong lớp phủ điện bi đề cập đến một hiện tượng mà sự xuất hiện của lớp phủ khác nhau giữa các bề mặt phẳng (phẳng) và dọc của một mảnh làm việc trong quá trình lớp phủ.Cụ thể, bề mặt phẳng thường hiển thị độ bóng thấp hơn, kết cấu thô hơn, độ dày phim không đồng đều, tạp chất hạt, và làm bằng kém so với bề mặt dọc.Hiệu ứng này không chỉ ảnh hưởng đến chất lượng thẩm mỹ của mảnh làm việc mà còn có thể làm ảnh hưởng đến hiệu suất bảo vệ của nóDưới đây, chúng tôi chi tiết các nguyên nhân của hiệu ứng L và các giải pháp tương ứng.
01 Nguyên nhân của hiệu ứng L
1 Mặt trước: Xử lý trước
- Việc khử mỡ kém hoặc ướt không đủ, dẫn đến các hạt, bụi hoặc bong bóng, có thể gây ra hố hoặc, trong trường hợp nghiêm trọng, tiếp xúc với chất nền.
- Phim phosphating thô, dẫn đến việc làm phẳng lớp phủ kém và giảm độ bóng.
- Bùn phosphating quá mức, dẫn đến sự hình thành hạt.
- Chất lỏng xử lý trước bị ô nhiễm hoặc rửa không hoàn chỉnh trước khi vào bồn tắm, làm tăng tạp chất và hình thành hạt.
2 Giữa cuối: Lỏng tắm
- Tỷ lệ sắc tố không cân bằng với chất kết nối (tỷ lệ cao gây ra sự lắng đọng sắc tố, làm tăng các hạt).
- Sự mất cân bằng pH: pH cao dẫn đến độ ướt kém, trong khi pH thấp gây ra sự hòa tan lại, làm mỏng bộ phim trên bề mặt phẳng và tạo ra sự khác biệt về độ dày giữa bề mặt dọc và phẳng.
- Hàm lượng dung môi thấp, dẫn đến hình thành màng kém và ướt không đủ, gây ra hố hoặc tiếp xúc với chất nền.
- Sự phát triển của vi khuẩn, gia tăng sự hình thành của các hạt.
- Dòng chảy lưu thông không đủ, dẫn đến trầm tích của nước tắm và tăng hạt.
- Hiệu suất hệ thống anode kém (ví dụ: màng anode bị chặn, dẫn điện kém hoặc ống/bảng anode bị ăn mòn), gây ra các trường điện không đồng đều.
- Tính dẫn điện cao, dẫn đến tỷ lệ hình thành phim không nhất quán, lão hóa chất lỏng tắm, hư hỏng nhựa, lắng đọng sắc tố hoặc bong bóng phá vỡ.
3 Backend
- UF (Ultrafiltration) Tank:
- Rửa đầy đủ của sơn nổi, gây ra vết xước, dấu vết chảy, hoặc hạt.
- pH thấp gây ra sự hòa tan lại, làm mỏng phim và tạo ra sự khác biệt về độ dày giữa các bề mặt dọc và phẳng.
- Khu vực thoát nước + lò: Bụi hoặc tạp chất lắng đọng trên bề mặt gây ra sự hình thành hạt, trong khi dòng không khí không đồng đều dẫn đến biến đổi nhiệt độ trong lò, dẫn đến độ bóng không đồng nhất trên toàn bộ mảnh làm việc.
02 Giải pháp cho hiệu ứng L
1 Mặt trước: Xử lý trước
- Tăng nồng độ và nhiệt độ của chất lỏng xử lý trước khi cần thiết.
- Điều chỉnh các thông số của dung dịch phosphating.
- Loại bỏ bùn phosphating
- Thay nước thường xuyên hoặc tăng tẩy rửa quá mức.
2 Giữa cuối: Lỏng tắm
- Thêm nhũ nước để cân bằng tỷ lệ sắc tố và chất kết nối.
- Thêm axit, thoát ultrafiltration, hoặc thoát anolyte.
- Tăng hàm lượng dung môi.
- Khử trùng, lắng đọng hoặc chuyển chất lỏng tắm.
- Tăng lưu lượng lưu thông và kiểm tra vòi phun.
- Kiểm tra sự tắc nghẽn màng (khử trùng nếu cần thiết) và kiểm tra ống/bảng anode có ăn mòn không.
- Rút nước lọc, giảm độ dẫn, và thêm sơn mới.
3 Backend
- Lò chứa UF:
- Kiểm tra các vòi phun bị tắc nghẽn, thường xuyên thay nước hoặc tăng tràn (trong bể ngâm).
- Ultrafiltration thoát nước hoặc anolyte.
- Giữ môi trường sạch sẽ, đảm bảo không khí chảy đều, đo đường cong nhiệt độ lò, và thường xuyên làm sạch lò.
Tóm lại
Hiệu ứng L là một khiếm khuyết lớp phủ phổ biến trong lớp phủ điện giải. Bằng cách tăng cường xử lý trước và quản lý chất lỏng tắm, cùng với việc thực hiện các biện pháp phụ trợ,Hiệu ứng L có thể được giải quyết hiệu quảCác biện pháp này không chỉ tăng hiệu quả sản xuất và ổn định chất lượng mà còn cải thiện hiệu suất bảo vệ và sự hấp dẫn thẩm mỹ của các mảnh được phủ.